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中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)走在崛起軌道上(三)

發(fā)布日期:2017-11-01

掌握核心技術(shù)仍需要時(shí)間

雖然設(shè)計(jì)和封測(cè)領(lǐng)域已經(jīng)能夠追趕其他發(fā)達(dá)國(guó)家與地區(qū),但從整體盤面來看,芯片制造方面差距則較大。

在半導(dǎo)體制造過程中需要大量的半導(dǎo)體設(shè)備和材料,郭高航對(duì)記者指出,國(guó)內(nèi)廠商在制造方面與國(guó)際先進(jìn)企業(yè)存在較大差距。設(shè)備方面,北方華創(chuàng)的刻蝕機(jī)能做到28nm級(jí)別,但也沒有大規(guī)模量產(chǎn),而現(xiàn)在國(guó)際最先進(jìn)的技術(shù)已經(jīng)到7nm級(jí)別, 相差三代,光刻機(jī)領(lǐng)域的差距更大。

材料端包括硅片、光刻膠、研磨材料、濺射靶材、化學(xué)氣體、化學(xué)材料等,每項(xiàng)差距都不同。硅片方面,上海新昇進(jìn)度偏慢。光照方面,中芯國(guó)際有自己附屬的光照廠,覆蓋28nm以上。郭高航稱,國(guó)內(nèi)光照廠很多關(guān)注在LED面板等低端領(lǐng)域。

根據(jù)市調(diào)機(jī)構(gòu)公布的晶圓產(chǎn)能報(bào)告,截至2016年底,在12英寸晶圓產(chǎn)能中,三星以22%位居全球第一,第二位是占14%的美光,SK海力士與臺(tái)積電均為13%,并列第三,中芯國(guó)際(2%)與力晶科技并列第九。其中,在純晶圓代工廠商中,中芯國(guó)際和力晶并列第四,在臺(tái)積電、GlobalFoundries和聯(lián)電之后。

此外,最大的問題也許還是人才和技術(shù)存在的先天短板。

“因?yàn)榧夹g(shù)瓶頸的突破一定會(huì)有一個(gè)學(xué)習(xí)曲線在里邊,已經(jīng)領(lǐng)先的廠商遇到過的問題,后進(jìn)者也會(huì)遇到,而且還要想辦法繞過前者專利方面的問題。在研發(fā)投入方面,海思只是個(gè)例,其他中國(guó)芯片設(shè)計(jì)企業(yè)應(yīng)向其學(xué)習(xí)。還有人才方面,由于中國(guó)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)框架從2015年開始才逐步完善,因此產(chǎn)業(yè)氛圍不足,人才體系的培養(yǎng)也還不成形。不過,隨著產(chǎn)業(yè)氛圍越來越濃厚,人才培養(yǎng)自然也會(huì)更完善,同時(shí)也會(huì)引進(jìn)高端人才。2018年一大批的晶圓廠要量產(chǎn)?!惫吆綄?duì)記者說。

而芯片代工巨頭臺(tái)積電一工程師對(duì)第一財(cái)經(jīng)記者也坦言,目前美國(guó)等國(guó)家都會(huì)保護(hù)先進(jìn)的技術(shù),但國(guó)內(nèi)政府的鼓勵(lì)措施會(huì)縮小國(guó)內(nèi)公司與國(guó)外的差距。在談到人才引入問題時(shí),他表示,現(xiàn)在不少企業(yè)會(huì)開出非常高的薪資,“能誘使臺(tái)積電的人跳槽的第一個(gè)原因是薪資,第二個(gè)是他們是不是真的能做他們想做的事。甚至有時(shí)候,實(shí)現(xiàn)自我成就會(huì)比工資更重要。”上述人士說。

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